Metrohm se complace en presentar una descripción general gratuita de los métodos analíticos que se utilizan para monitorear parámetros de control de calidad críticos en la producción de semiconductores.

Los métodos presentados en esta descripción general se utilizan para controlar la pureza del agua, los ácidos en los baños de grabado, la concentración de sales metálicas en los baños de recubrimiento e impurezas iónicas. En este documento se incluyen hipervínculos a numerosas Notas de aplicación y varios White Papers, lo que hace que la información detallada sobre la mayoría de estas aplicaciones esté disponible con un solo clic del mouse.

Para facilitar el acceso, los métodos están estructurados de acuerdo con las diferentes etapas del proceso de fabricación, desde el control de la pureza de las materias primas hasta el grabado, el enchapado, el envasado a nivel de obleas, la encapsulación y laminación de PCB y, finalmente, el control de la recuperación de productos químicos y el tratamiento de aguas residuales.

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