You have been redirected to your local version of the requested page

O acabamento superficial, como a galvanoplastia, é um dos processos industriais mais importantes para projetar produtos com propriedades físicas, químicas e eletrônicas dedicadas. A pureza e a composição dos solutos, solventes, catalisadores e banhos eletrolíticos são requisitos fundamentais para atingir as propriedades desejadas, evitar danos e inferioridade dos produtos por desequilíbrios ou contaminações. As impurezas, mesmo a nível de ultratraços, podem ter efeitos prejudiciais, por exemplo, nas propriedades eléctricas dos circuitos integrados e dos produtos finais na indústria de semicondutores. Portanto, a Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI) estipula para muitos produtos químicos básicos e níveis de impureza de matérias-primas na faixa baixa de µg/L. A cromatografia iônica (CI) é o método ideal para analisar impurezas iônicas, mesmo na faixa de ng/L.

Impurezas como flúor, cloreto, brometo, nitrito, nitrato, fosfato ou sulfato podem alterar as propriedades de um banho. Consequentemente, as propriedades de revestimento são prejudicadas ou o semicondutor é mesmo danificado. Os produtos químicos e matérias-primas utilizados para soluções de processo, como soluções de ataque químico, galvanização ou limpeza, precisam estar virtualmente livres de tais impurezas iônicas. IC, combinado com Eliminação de Matriz Inline e Pré-concentração Inline, é ideal para determinar tais impurezas mesmo em ultratraços.

A eliminação de matriz em linha remove componentes da matriz sem carga ou com carga oposta (por exemplo, peróxido de hidrogênio), reduzindo assim a preparação da amostra e melhorando a vida útil da coluna. A combinação adicional com a Pré-concentração Inline inteligente aumenta a sensibilidade da medição, permitindo a análise de impurezas na faixa de ng/L.

Exemplos de aplicações incluem:

  • Análise de traços de ânions e cátions em água ultrapura
  • Análise de traços de ânions em ácidos
  • Cloreto e sulfato em hidróxido de tetrametilamônio (TMAH)
  • Impurezas aniônicas em peróxido de hidrogênio ou solventes orgânicos como isopropanol

A robustez da técnica permite lidar com quase todas as soluções de processo, como soluções de ataque químico, extração ou enxágue.