O acabamento superficial, como a galvanoplastia, é um dos processos industriais mais importantes para projetar produtos com propriedades físicas, químicas e eletrônicas dedicadas. A pureza e a composição dos solutos, solventes, catalisadores e banhos eletrolíticos são requisitos fundamentais para atingir as propriedades desejadas, evitar danos e inferioridade dos produtos por desequilíbrios ou contaminações. As impurezas, mesmo a nível de ultratraços, podem ter efeitos prejudiciais, por exemplo, nas propriedades eléctricas dos circuitos integrados e dos produtos finais na indústria de semicondutores. Portanto, a Semiconductor Equipment and Materials International (SEMI) estipula para muitos produtos químicos básicos e níveis de impureza de matérias-primas na faixa baixa de µg/L. A cromatografia iônica (CI) é o método ideal para analisar impurezas iônicas, mesmo na faixa de ng/L.
Impurezas como flúor, cloreto, brometo, nitrito, nitrato, fosfato ou sulfato podem alterar as propriedades de um banho. Consequentemente, as propriedades de revestimento são prejudicadas ou o semicondutor é mesmo danificado. Os produtos químicos e matérias-primas utilizados para soluções de processo, como soluções de ataque químico, galvanização ou limpeza, precisam estar virtualmente livres de tais impurezas iônicas. IC, combinado com Eliminação de Matriz Inline e Pré-concentração Inline, é ideal para determinar tais impurezas mesmo em ultratraços.
A eliminação de matriz em linha remove componentes da matriz sem carga ou com carga oposta (por exemplo, peróxido de hidrogênio), reduzindo assim a preparação da amostra e melhorando a vida útil da coluna. A combinação adicional com a Pré-concentração Inline inteligente aumenta a sensibilidade da medição, permitindo a análise de impurezas na faixa de ng/L.
Exemplos de aplicações incluem:
- Análise de traços de ânions e cátions em água ultrapura
- Análise de traços de ânions em ácidos
- Cloreto e sulfato em hidróxido de tetrametilamônio (TMAH)
- Impurezas aniônicas em peróxido de hidrogênio ou solventes orgânicos como isopropanol
A robustez da técnica permite lidar com quase todas as soluções de processo, como soluções de ataque químico, extração ou enxágue.
Traços de ânions em hidróxido de tetrametilamônio (TMAOH)
Determinação de trimetilamina e cátions padrão em peróxido de hidrogênio a 30% (H2Ó2)
Determinação de pirofosfato e ânions padrão em peróxido de hidrogênio a 30% (H2Ó2)
Folheto: Preparação de amostras em linha da Metrohm (8.940.5002, PDF, 4,35 MB)